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高纯硅溶胶
公司通过自主研发的二氧化硅纳米颗粒形态及致密度控制技术， 可自由调节 5nm 以上粒度大小、形态、致密度和粗糙度，通过特殊的纳米颗粒生长技术，还可得到具有梯度致密度的核壳型胶体二氧化硅。产品金属不纯物可控制在1ppm以下。产品广泛应用于半导体CMP、MEMS、光学晶体用抛光、 陶瓷粘合剂、高纯涂层材料，喷墨用纸、催化剂载体、食品沉降剂等。 如果有需要请联系公司了解详情。
超高纯二氧化硅溶胶
超高纯二氧化硅溶胶
优士科超高纯硅溶胶采用溶胶-凝胶法，并通过自主开发的纳米颗粒生长调控技术，形成了系列化硅溶胶产品，产品金属不纯物控制在1ppm以下。
特点：规格多样，适用范围广，粒径，固含，pH,表面电荷等均可根据使用要求调整，金属不纯物含量低，粒径均匀，产品批次稳定性高。
用途：半导体CMP，光伏坩埚涂层，催化剂载体，光学晶体抛光，陶瓷粘结剂，喷墨用纸等。
高纯复合溶胶
公司通过自主研发的二氧化硅纳米颗粒形态及致密度控制技术， 可自由调节 5nm 以上粒度大小、形态、致密度和粗糙度，通过特殊的纳米颗粒生长技术，还可得到具有梯度致密度的核壳型胶体二氧化硅。产品金属不纯物可控制在1ppm以下。产品广泛应用于半导体CMP、MEMS、光学晶体用抛光、 陶瓷粘合剂、高纯涂层材料，喷墨用纸、催化剂载体、食品沉降剂等。 如果有需要请联系公司了解详情。
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