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超高纯二氧化硅溶胶2

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高纯硅溶胶
公司通过自主研发的二氧化硅纳米颗粒形态及致密度控制技术, 可自由调节 5nm 以上粒度大小、形态、致密度和粗糙度,通过特殊的纳米颗粒生长技术,还可得到具有梯度致密度的核壳型胶体二氧化硅。产品金属不纯物可控制在1ppm以下。产品广泛应用于半导体CMP、MEMS、光学晶体用抛光、 陶瓷粘合剂、高纯涂层材料,喷墨用纸、催化剂载体、食品沉降剂等。 如果有需要请联系公司了解详情。
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超高纯二氧化硅溶胶
超高纯二氧化硅溶胶 优士科超高纯硅溶胶采用溶胶-凝胶法,并通过自主开发的纳米颗粒生长调控技术,形成了系列化硅溶胶产品,产品金属不纯物控制在1ppm以下。 特点:规格多样,适用范围广,粒径,固含,pH,表面电荷等均可根据使用要求调整,金属不纯物含量低,粒径均匀,产品批次稳定性高。 用途:半导体CMP,光伏坩埚涂层,催化剂载体,光学晶体抛光,陶瓷粘结剂,喷墨用纸等。
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高纯有机硅溶胶
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高纯复合溶胶
公司通过自主研发的二氧化硅纳米颗粒形态及致密度控制技术, 可自由调节 5nm 以上粒度大小、形态、致密度和粗糙度,通过特殊的纳米颗粒生长技术,还可得到具有梯度致密度的核壳型胶体二氧化硅。产品金属不纯物可控制在1ppm以下。产品广泛应用于半导体CMP、MEMS、光学晶体用抛光、 陶瓷粘合剂、高纯涂层材料,喷墨用纸、催化剂载体、食品沉降剂等。 如果有需要请联系公司了解详情。
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纳米级二氧化硅粉体
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